《九成宫醴泉铭》笔画的变化与组合——纵向包围
全包围
一般规律：
（1）形态一般呈长方形，上横向右上倾斜；横细竖粗，右竖粗于左竖，长度也更长。
（2）两竖一般形态挺直，垂直向下；个别情况下左竖微微倾侧，下端内收，如图A、图F中的“日”字。但绝不会出现颜体、柳体中右竖向外弯曲的情况如图G、图H。
（3）左竖与上横一般搭接，不留空隙。
（4）框中的部件一般偏左或居中。
A B
C D
E欧阳询·皇甫诞碑 F欧阳询·兰亭记
G柳公权·玄秘塔碑 H颜真卿·颜勤礼碑
半包围（以下开为例）
一、左撇右竖型
一般规律：
（1）横笔向右上倾斜。撇画上端呈竖势，下端渐渐向左撇出。右竖或挺直向下（图A、、图D、图E），或略呈向内弯曲的弧形（图B、图C）。
（2）左撇与上横一般搭接，不留空隙。
（3）框中的空间狭长，部件一般偏左或居中，而且往往位置靠上。
A B
C D
E欧阳询·温彦博碑
二、同字框型
一般规律：
（1）横笔向右上倾斜。左右两侧的竖笔或挺直，或内收，呈向内收敛的态势，绝不外扩。
（2）左撇与上横或搭接，或相离。
（3）框中的部件一般偏左或居中，而且位置不能太低。
A B
C D
